半導(dǎo)體所 breakthrough PZT光電子材料與器件迎來重大突破
中國科學院半導(dǎo)體研究所在PZT(鋯鈦酸鉛)光電子材料與器件領(lǐng)域取得重大突破,成功研發(fā)出高性能PZT光電子器件,為新一代光通信、光計算和光傳感技術(shù)奠定了關(guān)鍵材料基礎(chǔ)。
PZT是一種具有優(yōu)異壓電、鐵電和電光特性的多功能材料,在光電子領(lǐng)域具有廣闊應(yīng)用前景。長期以來,PZT材料在光電子器件中的集成面臨晶格失配、光損耗高和工藝兼容性差等瓶頸。半導(dǎo)體所研究團隊通過創(chuàng)新性的材料生長和器件設(shè)計方法,攻克了這些難題。
據(jù)悉,團隊采用分子束外延(MBE)和金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)技術(shù),在硅基襯底上成功制備出高質(zhì)量PZT薄膜,并實現(xiàn)了低損耗光波導(dǎo)和高速電光調(diào)制器。實驗結(jié)果表明,該PZT光電子器件的電光系數(shù)高達120 pm/V,調(diào)制帶寬超過40 GHz,插入損耗低至2 dB/cm,綜合性能達到國際領(lǐng)先水平。
這一突破不僅推動了PZT材料在硅基光電子集成中的應(yīng)用,也為未來大規(guī)模光電子芯片的制備提供了新方案。專家表示,該成果有望在數(shù)據(jù)中心光互連、激光雷達(LiDAR)和量子信息處理等領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。
半導(dǎo)體所相關(guān)負責人表示,下一步團隊將致力于優(yōu)化器件工藝,提升集成密度和可靠性,并與產(chǎn)業(yè)界合作推動PZT光電子器件的商業(yè)化進程。
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更新時間:2026-10-03 02:54:47